26,081.74
-312.52
(-1.18%)
26,087
-264
(-1.00%)
高水5
8,814.42
-90.69
(-1.02%)
5,014.67
-77.41
(-1.52%)
1,838.26億
4,050.32
-5.23
(-0.129%)
4,727.91
-8.70
(-0.184%)
14,883.21
+86.88
(+0.587%)
2,753.73
-1.07
(-0.04%)
74,918.0000
-236.2800
(-0.314%)
空氣化工
  • 297.240
  • +2.030
  • (+0.688%)
  • 最高
  • 298.600
  • 最低
  • 295.825
  • 成交股數
  • 82.65萬
  • 成交金額
  • 1.15億
  • 前收市
  • 295.210
  • 開市
  • 295.990
  • 盤後
  • 296.550
  • -0.690
  • (-0.232%)
  • 最高
  • 299.130
  • 最低
  • 296.550
  • 成交股數
  • 24.29萬
  • 成交金額
  • 1.57千萬
  • 買入
  • 290.720
  • 賣出
  • 305.160
  • 市值
  • 657.30億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 16958
  • 每宗成交金額
  • 6,803
  • 波幅
  • 2.426%
  • 交易所
  • NYSE
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • --/20.93
  • 周息率/預期
  • 2.43%/2.44%
  • 10日股價變動
  • 1.257%
  • 風險率
  • 16.217
  • 振幅率
  • 1.250%
  • 啤打系數
  • 0.504

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 16/04/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

12/03/2026 00:22

美股動向 | 應用材料續漲,與美光及SK海力士研發新一代AI記憶體晶片

  《經濟通通訊社12日專訊》應用材料(US.AMAT)繼周二(10日)收盤上漲逾2%後,周三(11日)美股盤前持續走高,漲幅逾1%。

 

  消息面上,應用材料宣布與全球記憶體晶片巨企美光(US.MU)及SK海力士(US.HXSCL)達成戰略合作,共同開發對人工智能與高效能運算(HPC)至關重要的新一代記憶體晶片。該研發基地設於美國矽谷,旨在讓記憶體製造商的工程師與設備開發人員進行深度聯合研究。(kk)

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