25,605.29
-433.03
(-1.66%)
25,497
-451
(-1.74%)
低水108
8,584.17
-178.80
(-2.04%)
5,052.12
-147.16
(-2.83%)
2,276.29億
4,090.36
+15.26
(+0.374%)
4,949.15
+34.59
(+0.704%)
15,737.47
+146.34
(+0.939%)
2,931.70
+24.21
(+0.83%)
67,205.3800
+444.5400
(0.666%)
GDEV Inc
  • 13.800
  • -0.400
  • (-2.817%)
  • 最高
  • 14.326
  • 最低
  • 13.800
  • 成交股數
  • 4,008.00
  • 成交金額
  • 3.94萬
  • 前收市
  • 14.200
  • 開市
  • 14.210
  • 盤後
  • 13.850
  • 0.050
  • (+0.362%)
  • 最高
  • 13.850
  • 最低
  • 13.850
  • 成交股數
  • 3.00
  • 成交金額
  • 44.27
  • 買入
  • 12.050
  • 賣出
  • 20.000
  • 市值
  • 2.62億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 114
  • 每宗成交金額
  • 345
  • 波幅
  • 5.716%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 3.82/3.33
  • 周息率/預期
  • 22.97%/--
  • 10日股價變動
  • -9.980%
  • 風險率
  • 4.514
  • 振幅率
  • 2.740%
  • 啤打系數
  • 1.912

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 02/06/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

27/05/2026 00:44

美股動向 | SK海力士推革命性「iHBM」散熱技術

  《經濟通通訊社27日專訊》南韓記憶體巨擘SK海力士(US.HXSCL)宣布,推出具備突破性的「iHBM」控溫散熱技術。面對人工智慧晶片日益嚴苛的高溫挑戰,該技術透過在HBM封裝內部直接整合一體化冷卻元件,能大幅降低產品運作時的發熱量。

 

  有別於傳統HBM需仰賴核心晶片向外傳導的間接散熱模式,SK海力士的「iHBM」技術從封裝結構層面進行了根本性的改良。其核心在於將採用絕緣且具備高導熱性矽基材料製成的冷卻元件,直接嵌入於熱量最為密集的D2D PHY區域內。這項創新設計在記憶體內部建構一條專屬的散熱通道,成功使系統熱阻大幅下降超過30%,確保晶片在持續高溫與高負載環境下依然能維持穩定運行。(kk)

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