25,599.96
-438.36
(-1.68%)
25,494
-454
(-1.75%)
低水106
8,579.83
-183.14
(-2.09%)
5,076.88
-122.40
(-2.35%)
1,697.55億
4,097.94
+22.84
(+0.560%)
4,990.50
+75.94
(+1.545%)
15,951.08
+359.95
(+2.309%)
2,961.11
+53.62
(+1.84%)
66,338.1900
-422.6500
(-0.633%)
Verastem
  • 3.810
  • -0.380
  • (-9.069%)
  • 最高
  • 4.250
  • 最低
  • 3.785
  • 成交股數
  • 3.43百萬
  • 成交金額
  • 1.04千萬
  • 前收市
  • 4.190
  • 開市
  • 4.210
  • 盤後
  • 3.800
  • -0.010
  • (-0.265%)
  • 最高
  • 3.880
  • 最低
  • 3.800
  • 成交股數
  • 1.91萬
  • 成交金額
  • 6.46萬
  • 買入
  • 3.500
  • 賣出
  • 4.500
  • 市值
  • 3.68億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 12550
  • 每宗成交金額
  • 826
  • 波幅
  • 7.196%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • --/-3.79
  • 周息率/預期
  • --/--
  • 10日股價變動
  • -10.142%
  • 風險率
  • 1.806
  • 振幅率
  • 5.310%
  • 啤打系數
  • 0.197

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 02/06/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

27/05/2026 00:44

美股動向 | SK海力士推革命性「iHBM」散熱技術

  《經濟通通訊社27日專訊》南韓記憶體巨擘SK海力士(US.HXSCL)宣布,推出具備突破性的「iHBM」控溫散熱技術。面對人工智慧晶片日益嚴苛的高溫挑戰,該技術透過在HBM封裝內部直接整合一體化冷卻元件,能大幅降低產品運作時的發熱量。

 

  有別於傳統HBM需仰賴核心晶片向外傳導的間接散熱模式,SK海力士的「iHBM」技術從封裝結構層面進行了根本性的改良。其核心在於將採用絕緣且具備高導熱性矽基材料製成的冷卻元件,直接嵌入於熱量最為密集的D2D PHY區域內。這項創新設計在記憶體內部建構一條專屬的散熱通道,成功使系統熱阻大幅下降超過30%,確保晶片在持續高溫與高負載環境下依然能維持穩定運行。(kk)

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