25,431.31
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高水6
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阿斯麥
  • 1,740.130
  • -23.630
  • (-1.340%)
  • 最高
  • 1,761.980
  • 最低
  • 1,727.570
  • 成交股數
  • 1.20百萬
  • 成交金額
  • 17.11億
  • 前收市
  • 1,763.760
  • 開市
  • 1,761.560
  • 買入
  • 1,736.020
  • 賣出
  • 1,737.880
  • 市值
  • 6,774.60億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 83028
  • 每宗成交金額
  • 20,608
  • 波幅
  • 7.486%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 59.38/29.92
  • 周息率/預期
  • 0.51%/0.51%
  • 10日股價變動
  • -5.832%
  • 風險率
  • 320.081
  • 振幅率
  • 1.708%
  • 啤打系數
  • 1.597

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 24/08/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

11/08/2026 02:10

美股動向|ASML月內累跌5%,大行唱好潛在升幅達五成

  《經濟通通訊社11日專訊》荷蘭光刻機巨頭ASML(US.ASML)近月股價受中國競爭消息拖累,但獲華爾街大行伯恩斯坦(Bernstein)給予2623美元目標價,較現價潛在升幅達50%。

 

  ASML股價上周單日急挫7%,主因彭博報道中國上海微電子開始量產浸沒式深紫外光(DUV)設備。消息引發市場憂慮,拖累ASML股價一度跌至6月初以來低位。同業應用材料(US.AMAT)及科磊(US.KLAC)同期分別跌5.5%及10.4%。

 

  ASML最新公布次季收入按年增21%至106.5億美元,連續第四季盈利超預期。公司同時上調全年收入指引至430-450億歐元,並計劃2027年前將低數值孔徑EUV及DUV產能擴充30%。

 

  伯恩斯坦維持「跑贏大市」評級,強調ASML在3納米以下極紫外光(EUV)設備的絕對壟斷地位。該行指人工智能投資潮將持續推高先進製程需求,配合高數值孔徑EUV設備普及及HBM記憶體擴產,料可支撐長期增長。

 

  比較同業表現,應用材料及科磊目前分析師平均目標價分別隱含17%及17%升幅,遠低於ASML的25%平均潛在升幅。ASML今年累漲63.5%,大幅跑贏標指的13.4%升幅。

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